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桌面型納米壓印機(jī)

簡(jiǎn)要描述:光刻技術(shù)實(shí)際上是一種精密表面加工技術(shù),它借助于一定波長(zhǎng)的激光光源以及選擇性的化學(xué)腐蝕和刻蝕技術(shù)把設(shè)計(jì)的微納圖案轉(zhuǎn)移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難以滿(mǎn)足當(dāng)前對(duì)線(xiàn)寬越來(lái)越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設(shè)備又極其昂貴。為了擺脫光學(xué)衍射極限和克服高成本的限制,一種操作簡(jiǎn)單,成本低廉的納米壓印技術(shù)產(chǎn)生了。桌面型納米壓印機(jī)

  • 產(chǎn)品型號(hào):AU-CNI
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-06-02
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:2961
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產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口

桌面型納米壓印機(jī)

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超緊湊納米壓印機(jī)!

所屬類(lèi)別:實(shí)驗(yàn)設(shè)備 » 無(wú)掩模光刻系統(tǒng)

技術(shù)服務(wù)人員:李工(William)

超緊湊納米壓印機(jī)

 

光刻技術(shù)實(shí)際上是一種精密表面加工技術(shù),它借助于一定波長(zhǎng)的激光光源以及選擇性的化學(xué)腐蝕和刻蝕技術(shù)把設(shè)計(jì)的微納圖案轉(zhuǎn)移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難以滿(mǎn)足當(dāng)前對(duì)線(xiàn)寬越來(lái)越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設(shè)備又極其昂貴。為了擺脫光學(xué)衍射極限和克服高成本的限制,一種操作簡(jiǎn)單,成本低廉的納米壓印技術(shù)產(chǎn)生了。納米壓印的技術(shù)核心是充分利用機(jī)械能將剛性模板上的圖案轉(zhuǎn)到抗蝕劑上,之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉(zhuǎn)移到基板上。到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來(lái)多種類(lèi)型,典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。

 

上海昊量光電設(shè)備有限公司推出的納米壓印機(jī)AU-CUI為熱壓印和紫外固化壓印設(shè)備。

 

AU-CNI納米壓印機(jī)是一款桌面大小的納米壓印和熱壓成型的機(jī)器。它可以用于微米或納米結(jié)構(gòu)的壓印成型。AU-CNI不但可以進(jìn)行熱壓印還可以進(jìn)行UV壓印。

對(duì)于熱壓印首先設(shè)備通過(guò)施加壓力使模板與基板緊密接觸,加壓范圍最大可達(dá)到11bar,通常依據(jù)溫度控制壓印過(guò)程。溫度最高可達(dá)到200℃,由于采用原位實(shí)時(shí)測(cè)量溫度,因此控溫精度可達(dá)到1℃。

 

UV曝光采用4個(gè)365nm的LED光源,組合光的功率可達(dá)到11.6W,LED的溫度被實(shí)時(shí)檢測(cè),擁有過(guò)熱保護(hù)功能,即使出現(xiàn)過(guò)熱的現(xiàn)象也可以確保曝光劑量正確。

 

 

此外設(shè)備擁有簡(jiǎn)潔的操作軟件。通過(guò)軟件可以控制壓印的溫度、壓力、曝光時(shí)間等參數(shù)。并且可以編輯并存儲(chǔ)在該軟件中。

AU-CUI其操作簡(jiǎn)單,功能強(qiáng)大,易于實(shí)現(xiàn)新的實(shí)驗(yàn)和非標(biāo)準(zhǔn)的加工。是納米壓印的*工具。

 

  1. 壓印圖案

 


 

 

桌面型納米壓印機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

l   操作簡(jiǎn)單

l   即插即用

l   結(jié)構(gòu)緊湊

l   多種用途

主要應(yīng)用

微米/納米結(jié)構(gòu)的壓印

高縱橫比結(jié)構(gòu)的壓印

聚合物的熱壓印

壓印模板制作

產(chǎn)品參數(shù)

 

Pressure

Imprint pressure from 0.3 - 11 bar overpressure

Temperature

Up to 200ºC with control of +/- 1ºC

UV exposure

UV led light with 365 nm wavelength and optical power of 11600 mW

Vacuum

The imprint chamber can be evacuated down to pressure below 1 mbar

Size of imprint chamber

Diameter of 100 mm and height of 20 mm (can be expanded up to 45   mm)

Automated replication process

1Stamp and   substrate are loaded manually

2Replication   process is fully automated and controlled through CNI software

Software

Full process control and flexibility. Everything besides loading   and unloading is handled by the software

CNI customization

CNI can be modified to meet individual requirements

On-line video instructions

On-line video installation and operation guides

Optional

1Pressure   booster to boost a lab compressed air supply from 3-5 bar to 6-10 bar

2Training   and/or installation by NILT personnel

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